ALD-Gerät mit hoher Gleichmäßigkeit Al2O3-Film, der durch Atomic Layer Deposition angebaut wird

Name: ALD-Gerät mit hoher Gleichmäßigkeit Al2O3-Film, der durch Atomic Layer Deposition angebaut wird
Brand: Zhengzhou Cy Scientific Instrument Co., Ltd.
SKU: 1600520557478
Price: 50,000 USD
Availability: InStock

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Zhengzhou Cy Scientific Instrument Co., Ltd.

Sonderanfertiger 11 yrs

ALD-Gerät mit hoher Gleichmäßigkeit Al2O3-Film, der durch Atomic Layer Deposition angebaut wird

Haupteigenschaften

Branchenspezifische

Schicht

Vakuumschicht

Spannung

220

Energie (HP)

3500

Weitere

Art

Atom schicht ablagerung

Garantie

1 JAHR

Gewicht (KG)

500

Substrat

Stahl

Video ausgehenden-inspektion

Zur verfügung gestellt

Maschinen Prüfbericht

Zur verfügung gestellt

Core Komponenten

PLC

Ursprungsort

Henan, China

Markenname

CYKY

Maß (L*W*H)

Angepasst

Schlüssel Verkauf Punkte

Günstigen Preis

Maschine Typ

Beschichtung Ausrüstung

Produktname

Atom schicht ablagerung

Schlüssel wörter

Al2o3-Film, der durch Atom schicht abscheidung gezüchtet wird

Steuer hardware

SPS-Kontroll system

Vakuumpumpe

1,5 l/s

Beispiel dimension

156x156mm

Substrat heizt emperatur

RT-400 ℃

Vorläufer quellen

Vorläufer-Pipeline-Heizt emperatur

RT-150 ℃

Moq

1 Satz

Strom versorgung

220V/110V.

Verpackung und Lieferung

Details zur Verpackung

Wooden Case

Hafen

Qingdao, Shanghai

Lieferfähigkeit

300 Satz/Sätze per Year

Bearbeitungszeit

Produktbeschreibung des Lieferanten

1 - 9 Sätze

78.699,20 €

>= 10 Sätze

49.187,00 €

Ausführungen

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